Fotolitografi

Fotolitografi, önceden hazırlanmış bir maske kullanarak silikon devre levhası (wafer) üzerinde kaplı olan fotorezistin şekillendirilmesi işlemidir. Fotorezistin ışık gören kısımlarının developer’da çözünüp yok olması pozitif fotorezist kullanarak, tersi ise negative resist kullanarak sağlanmaktadır. Wafer’ın fotorezist ile homojen bir şekilde kaplanması ise spinner kullanılarak gerçekleştirilir. 35 m2 alana sahip bu bölümde 1 adet EVG620 Maske Hizalayıcı, 1 adet Brewer Spinner ve Hot Plate, mikroskop ve ıslak tezgah bulunmaktadır. Bu alanda farklı çeşitlerde fotorezist ve önceden hazırlanmış olan fotomaskeler kullanılarak 0,5µm hassasiyete kadar hizalama ile fotolitografi çalışmaları yapılabilmektedir.

 

EVG620 Maske Hizalayıcısı

EVG620 maske hizalayıcısı ile otomatik üst ve alt optikler kullanılarak 0,5 µm hassasiyete kadar üstten (Top Side), 1 µm hassasiyete kadar alttan (bottom side) hizalama yapılabilmektedir.

Teknik Özellikler
- 100 mm çapa kadar silikon devre levhasına (wafer) uygun
- 5" maske tutucu
- Yumuşak (Soft), Sert (Hard), Vakum kontakt ve Yakınlık (Proximity) ışınlama modları
- Hizalama aralığı X, Y ±5mm Teta 3°
- Hizalama doğruluğu: 0,5 µm üstten (top side), 1 µm alttan (bottom side)
- UV ışık kararlılığı: % ±2 (100mm çapta)
- Lamba şiddeti: 20-25 mW/cm2

 

Brewer Spinner ve Hot Plate

Fotolitografinin önemli adımlarından Ön pişirme (Pre-bake, Son Pişirme (Post-bake) ve fotorezist spin etme gibi adımlar bu cihaz kullanılarak yapılmaktadır. Brewer, Windows işletim sistemi kullanan dokunmatik ekran üzerinden kontrol edilmektedir.

Teknik Özellikler
- 250.000 reçete kapasitesi
- 0 - 6000 rpm hız aralığı
- 0 - 30.000 rpm/s hızlanma aralığı
- Spin hız tekrarlanabilirliği: <0,2 rpm
- Spin hız çözünürlüğü: <0,2 rpm
- Kullanılabilen örnek boyutu 10 - 200 mm
- Sıcaklık çözünürlüğü: 0,1°C
- Sıcaklık aralığı: Ortam sıcaklığı - 300°C
- Sıcaklık kararlılığı: tüm çalışma yüzeyinde 0,3°C

 

Nikon Mikroskop

Fotolitografinin hemen hemen her adımında yapılması gereken optik kontrol, litografi odasında bulunan mikroskop ile yapılmaktadır. 50, 100, 200, 500 ve 1000 büyütmeye sahip bu mikroskopta 1 mikronluk yapılara kadar yapılar rahatlıkla görülüp ölçülebilir.

                                                       

 

Litografi Odası Islak Tezgah (Wetbench)

Litografi odasında bulunan ıslak tezgahlarda, başta ışınlanmış fotorezistin develop edilmesi olmak üzere tüm kimyasal temizlik ve aşındırma işlemleri yapılmaktadır. Temizlenen örnekler sürekli sağlanmakta olan DI su ile durulanır, azot gazı ile kurulanır. Tezgah üzerinde ayrıca iki adet sıcak yüzey (hot plate) ve bir adet spinner bulunmaktadır.